2026年3月18日--比利時微電子研究中心（imec）宣布艾司摩爾（ASML）EXE:5200高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影系統順利到廠，這套設備是目前市面上最先進的微影工具。藉由此次的策略里程碑，imec進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位，提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。這套High-NA EUV系統直接整合量測和圖形化工具及材料的全面套件，將能賦予imec及其生態系統夥伴發展量能，以解鎖2奈米以下邏輯和高密度記憶體技術所需的性能，這些先進技術將為先進AI與高效能運算技術注入快速成長的動能。
imec執行長Luc Van den hov表示：「過去兩年已經為高數值孔徑（0.55NA）EUV微影技術寫下重要篇章，imec與ASML在雙方共同於荷蘭Eindhoven建立的High-NA EUV實驗室，攜手生態系統來領先研發High-NA EUV技術。這套EXE:5200 High-NA EUV微影系統安裝在imec設於比利時魯汶的12吋無塵室，我們希望藉此推動這些High-NA EUV圖形化技術與產業接軌，並開發新一代High-NA EUV圖形化技術的應用案例。這套系統具備最頂尖的解析度、增強型疊對性能、高產量，以及提升製程穩定度和產量的新型晶圓倉儲設備，這些特點將在imec合作夥伴加速2奈米以下的晶片發展時，提供他們決定性優勢。隨著半導體業邁入埃米世代，High-NA EUV技術將是基礎戰力，而imec透過提供自家合作夥伴最早全面取得這項技術的機會而有幸能率先開發。」
這項里程碑是imec與ASML策略夥伴關係的關鍵部分，該協議為期五年，並獲得歐盟（晶片聯合承諾與歐洲共同利益重要項目）、法蘭德斯政府與荷蘭政府的支持。imec執行長Luc Van den hov說明：「作為歐盟資助的奈米晶片試驗製程的組成部分，這套工具預計將鞏固歐洲在未來數十年先進半導體研發的領導地位。」
在imec的無塵室配備ASML EXE:5200 High-NA EUV微影系統，穩固了imec在先進圖形化技術領域作為最完整開發環境的地位。imec與各大晶片製造商、設備、材料與阻劑供應商、光罩企業及量測專家建立深度生態系統合作，這將能讓我們加速學習循環並提升製程穩定度，為新一代邏輯和記憶體元件技術，開發與展示尖端圖形化技術，驅動將能塑造未來先進運算與AI發展的技術創新。
ASML執行長Christophe Fouquet表示：「imec成功安裝EXE:5200曝光機是邁向埃米世代的重要一步。透過合作，我們正在加速High-NA EUV為新世代先進記憶體與運算技術拓展應用的能力。」
imec預期EXE:5200 High-NA EUV微影系統將在2026年第四季完成所有檢驗。同時，ASML與imec於荷蘭Eindhoven共同建立的High-NA EUV微影實驗室也將維持運作，為imec及其生態系統夥伴確保High-NA EUV研發工作持續進行。
for the second picture:
Left to right: Peter Vanoppen (ASML), Martin van den Brink (ASML), Luc Van den hove (imec), Matthias Diependaele (Flemish government), Patrick Vandenameele (imec)
比利時微電子研究中心（imec）簡介
比利時微電子研究中心是在先進半導體科技領域的領先研究與創新中心。 imec憑藉其先進的研發設備及6500多名員工的專業知識與經驗，在半導體與系統微縮、人工智慧、矽光子、連接與感測技術方面驅動創新。
imec的前瞻研究驅動著眾多不同的產業取得突破，包含運算、健康衛生、汽車、能源、資訊娛樂、工業、農業食品與安全產業。透過IC-Link商用客製晶片服務，imec引導企業走過晶片開發的每個步驟—從初始概念到全面製造，提供為滿足最先進設計與生產需求而專門設計的客製化解決方案。
imec與半導體價值鏈內的全球領先大廠，以及比利時法蘭德斯地區和世界各地的科技公司、新創、學術界、研究機構建立合作。imec的總部位於比利時魯汶，在比利時、歐洲各地與美國設有研究機構，並在三個大洲設立辦事處。2024年，imec的收益（損益表）總計10.34億歐元。
imec集團持有國際商標組合，包含文字商標及組合圖形註冊與未註冊商標，橫跨國家、區域與國際領域。其合法使用需遵照IMEC品牌準則，事先取得imec書面同意；該準則可能定期更新。最新版本可應書面要求取得。
