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看好產值破兆美元商機,應材成立EPIC中心面對晶片五大挑戰

本文作者:馬承信       點擊: 2023-09-12 23:07
前言:
圖片人物: 應用材料預計將投入40億美元成立「設備與製程創新暨商業化(EPIC)」中心,攜手晶圓客戶、大學和生態系夥伴加速先進設備的研發。左二為台灣應用材料總裁余定陸。

    科技的興起使得晶片需求一再提高,近幾年,從物聯網、汽車電子,在到今年大放異彩的人工智慧,晶片無處不在,同時也推動半導體產業成長,預計在2030年產值會突破1兆美元。

在滿足這些晶片需求的同時,晶片製造商也面臨維持創新步伐的重大挑戰。應用材料日前在「AppliedEnables Day」技術簡報會議中,提出晶片製造商將面臨的五大挑戰,並揭露最新的因應策略與技術佈局。
 
應用材料公司表示,這些挑戰可從五大層面來闡述,首先是製造技術複雜性提高,製程步驟不斷增加。其次是成本提高,前五大晶片製造商、設備製造商每年研發總支出超過600億美元,這些支出需更具效益。第三是研發和生產的節奏變快,開發、商業化所需時間越來越長,必須加速才能因應市場所需。

第四是碳排放,從14奈米到2奈米,每個技術節點的碳排放都會加倍成長,如果不採取因應措施,碳排到2030年以前將再增加四倍,兩倍來自產業的成長,另外兩倍來自製程複雜性。第五是大學畢業生人才緊張,目前接受培訓成為下一代創新者、技術人員和領袖的人才尚不足。產業需要100萬位新鮮人投入,比目前再增加50%。
 
為因應上述五大挑戰,應材宣布投資40億美元,成立「設備與製程創新暨商業化(Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC)」中心,攜手晶片製造商、大學和生態系夥伴應對挑戰,以新模式打破傳統孤島,並把半導體產業現行協作過程由串行(serial)轉變為攜手並行(parallel),協助業界將創新技術從概念到商業化的所需時程減少30%,提高商業成功率以及研發投資回報。 
 
此外,應材也推出Centura® Sculpta®圖案化系統、Vistara™晶圓製造平台,並運用新的混合鍵合與矽穿孔技術精進異質晶片整合(Heterogeneous Integration)能力,透過其在技術上的創新突破性發展,協助晶片製造商解決先進晶片製程日益增加的各項挑戰。

    應用材料公司集團副總裁暨台灣區總裁余定陸表示,儘管半導體對全球經濟較諸以往更顯至關重要,半導體產業面臨的技術挑戰也變得更加複雜。而這項投資則提供一個重新塑造全球產業合作方式的黃金佳機,為支持能源效率、高速運算的快速精進上,提供所需要的基礎性半導體製程和製造技術。
 

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