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意法半導體推出100V工業級STripFET F8電晶體,質量因數提升40%

本文作者:意法半導體       點擊: 2023-06-14 15:42
前言:
2023年6月14日--服務橫跨多重電子應用領域的全球半導體領導廠商意法半導體(STMicroelectronics,簡稱ST;紐約證券交易所代碼:STM)之新款STL120N10F8 N通道100V功率MOSFET擁有極低的閘極-漏極電荷(QGD)和導通電阻RDS(on),質量因數(Figure of Merit,FoM)相較上一代同類產品提升40%。

 
新推出的MOSFET利用ST的STPOWER Strife F8先進技術,導入氧化物填充溝槽製程,包含極低的導通損耗和低閘極電荷於一身,提供高效的開關性能。因此,當STL120N10F8的最大導通電阻RDS(on)為 4.6mΩ(在 VGS = 10V 時),最高運行頻率可達到600kHz。

STripFET F8技術亦確保輸出電容值減少漏極和源極間的尖峰電壓,並最大程度減少充放電的能量浪費。此外,此款MOSFET之本體二極體的柔和切換特性更高。這些進化之處可以減少電磁輻射,簡化最終系統的合規性測試,並確保電磁相容性(Electromagnetic Compatibility,EMC)符合適用的產品標準。

STL120N10F8擁有卓越的效能和較低的電磁輻射,可以強化硬開關和軟開關拓撲的電源轉換性能。此外,這款產品亦是首款完全符合工業級規格的STPOWER 100V STripFET F8 MOSFET,適用於馬達控制、電信和電腦系統的電源及轉換器、LED 和低壓照明,以及消費性電器和電池供電裝置。

新款MOSFET還有其他優勢,其中包括低的閘極閾值電壓(VGS(th))差,此優勢在強電流應用中很有幫助,還可以簡化多個功率開關在大電流應用的並聯設計。新產品的穩定性非常高,能夠承受10µs的800A短路脈衝電流衝擊。

STL120N10F8採用 PowerFLAT5x6 封裝,現已全面量產。

更多資訊,請瀏覽:www.st.com/100v-F8-stripfet

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