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利用TI車用GaN FETs實現HEV/EV的高開關頻率與穩健性能

本文作者:Ramanan Natarajan       點擊: 2021-02-23 11:42
前言:
為了加速電動車(EV)技術導入,滿足消費者對續航里程、充電時間與性價比的要求,全球汽車大廠在研發上需要更高的電池容量、更快的充電性能,同時盡可能降低或維持設計尺寸、重量或元件成本。

透過EV車載充電器(OBC),消費者能在家用、公用或商用充電站,直接以AC電源為電池充電。順應當前潮流,這項技術目前也快速發展。為提高充電率,OBC的額定功率已從3.6 kW提升至22 kW,不過,設計人員也必須思考如何在不影響續航里程的前提下,將OBC與電動車既有機械系統整合。另一業界趨勢則是將現今OBC低於2 kW/L的功率密度,逐步提高至4 kW/L。

開關頻率的影響
OBC是一種開關式功率轉換器,主要由變壓器、電感器、濾波器、電容器等被動元件與散熱器組成。提高開關頻率能減少被動元件的尺寸,但金屬氧化物半導體場效應電晶體(MOSFETs)、絕緣柵雙極電晶體等開關元件的功耗也會隨之提高。

元件尺寸縮小後,能用於排熱的表面積也減少,因此必須進一步降低功耗,才能維持元件溫度不變。達成高功率密度需要同步提升開關頻率與效率,而這是過去矽基功率元件無法克服的難題。

追求提高開關速度(元件端點之間電壓與電流的變化速度)的同時,必須減少開關能量損耗,否則實際最大頻率將會受限。採用低電感電路布局設計、端點間寄生電容低的功率元件,將是未來的研發方向。

超越矽基,氮化鎵技術時代來臨
氮化鎵(GaN)、碳化矽(SiC)等寬能隙功率半導體具有優良物理特性,因此使用此類材料開發的功率元件,能實現極低的電容以及理想的導通電阻。與相較於MOSFET有較高的崩潰電壓值於相同晶粒體積下,氮化鎵的崩潰臨界電場高於矽的10倍,電子遷移率也比矽高出33%,具有低導通電阻與低電容的雙重優點。因此,與矽元件相比,氮化鎵與碳化矽FETs能在更高的開關速度下運作,且功率損耗更低。

氮化鎵具有的材料優勢包含:
閘極電容低,能在硬切換時提升開關速度,降低交越功耗。氮化鎵閘極電荷的優值為1 nC-Ω。
在軟切換應用中,氮化鎵的低輸出電容有助汲極到源極的快速轉換,在低負載(磁化)電流時尤其如此。舉例而言,氮化鎵的輸出電荷優值一般為5 nC-Ω,矽材料則為25 nC-Ω。這種特性有助設計人員壓縮死區時間、維持低磁化電流,對於提升頻率與降低循環功率損失極為重要。
不同於矽基與碳化矽功率MOSFETs,氮化鎵電晶體的結構不含本體二極體,因此無反向復原損耗。這種特性能實現kW級的圖騰柱無橋功率因數校正等高效率架構,是過去使用矽基元件無法達成的事。

如圖一所示,設計人員能運用上述氮化鎵的特性,在更高的開關頻率上達成高效率。額定電壓為650V的GaN FETs能支援高達10 kW的應用,例如伺服器AC/DC電源、EV高電壓DC/DC轉換器與OBC(平行堆疊達到22 kW)。高達1.2 kV等級的高載流能力碳化矽元件,則適合用於EV牽引逆變器與大型三相電網轉換器。
圖一:氮化鎵超越過往技術,能用於極高頻應用

高頻率的設計挑戰
一般而言,開關數百伏特時,上升與下降時間為10-ns,因此在設計上須特別謹慎,避免寄生雜散電感效應。在此方面,FETs與驅動器之間的共源極與閘極迴路電感為兩大考量因素:
共源極電感會限制汲極到源極的瞬態電壓(dV/dt)與瞬態電流(dI/dt),降低開關速度,並在硬切換時提高重疊損耗、在軟切換時延長轉換時間。
閘極迴路電感會限制閘極電流(dI/dt),降低開關速度,並在硬切換時提高重疊損耗。另一負面影響為容易發生米勒導通現象,提高額外功耗的風險;設計人員也必須避免閘極氧化層承受電壓過載,否則將減損設計可靠性。

為了因應,工程師可能須採用鐵氧體磁珠與阻尼電阻,但這兩者會降低開關速度,讓頻率難以提升。氮化鎵與碳化矽元件雖然適用於高頻運作,然而,要充分發揮材料優勢,尚須克服系統上的設計挑戰。如果產品設計能面面俱到,滿足使用便利度、穩健性與設計彈性,便能加速新一代技術導入。

整合驅動器、保護、與電源管理功能的GaN FETs
TI全方位整合式650-V車用GaN FETs能發揮氮化鎵的材料優點,實現高效率、高頻率開關性能,且不會衍生設計與元件選擇問題。透過低電感四方扁平無引線(QFN)封裝,GaN FETs與驅動器近距離整合後,能大幅減少寄生閘極迴路電感,因此無須擔心閘極過載或寄生米勒導通現象。同時,低共源極電感能實現快速切換、減少功耗。

LMG3522R030-Q1結合了C2000™即時微控制器的先進控制性能,例如TMS320F2838x或TMS320F28004x,有助提高1 MHz以上功率轉換器的開關頻率,與現有矽基或碳化矽解決方案相比,能降低59%的磁性元件尺寸。

與分離式FETs相比,LMG3525R030-Q1具有大於100 V/ns的汲極到源極轉動率,經驗證能有效減少高達67%的開關損耗,且能於30 V/ns至150 V/ns之間彈性調整,有助在效率與電磁干擾之間取得理想平衡,減少下游產品設計風險。此外,LMG3525R030-Q1的整合式電流保護可提升耐用度,更配備創新性能,包括用於主動電源管理的數位脈衝寬度調變溫度感測、健康狀態監控以及理想二極體模式等,可省去主動控制死區時間的麻煩。採用12mm x 12mm頂部冷卻QFN封裝也有助提升熱管理效能。

TI氮化鎵元件具有超過4000萬小時的可靠度,且10年生命週期失效率小於1,絕對能滿足汽車製造商對強健性的高標準。不只如此,TI氮化鎵並非採用碳化矽或藍寶石基板,而是以常見矽基板與現有製程節點生產,100%由內部廠房製造,提供客戶無可比擬的供應鏈與成本優勢。歡迎瀏覽TI氮化鎵簡介,深入了解車用GaN FETs。

關於德州儀器(TI)
德州儀器(納斯達克股票代碼:TXN)為位居世界領導地位的全球半導體公司,致力於設計、製造、測試以及銷售類比和嵌入式半導體晶片,為工業、汽車、個人電子、通訊設備和企業系統等市場服務。打造更美好的世界是我們的願景,為此,我們以半導體技術為基礎,致力於創造更輕巧、更高效、更可靠及更具成本效益的產品解決方案,使半導體更加普及地被應用於各式電子產品中。推動半導體技術持續更上一層樓,是我們數十年來始終如一的信念。更多詳情,敬請瀏覽TI.com
 

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