Mentor Graphics 客戶擴大對Calibre Pattern Matching的使用,以此解決最嚴峻的IC驗證和製造問題
前言：
2016年6月15日--Mentor Graphics 公司（納斯達克代碼：MENT）今天宣佈，客戶和系統合作夥伴正擴大對 Calibre Pattern Matching 解決方案的使用，以此解決過往非常棘手的 IC 驗證和製造所面臨的問題。此方案可整合到 Mentor® Calibre nmPlatform 解決方案中，形成協同作用，進而促進跨多個製程節點的 IC 設計公司和晶圓代工廠的新應用程式。
Calibre Pattern Matching 技術通過自動化的視覺幾何形狀辨識捕捉和對比工藝，可針對多層次操作及設計規則進行補充。此視覺化方案非常強大，不僅能捕捉複雜的圖形關係，還能在混合不同應用工具的流程中進行工作，因此 Mentor 客戶能輕鬆創建新的應用程式，從而解決各類難題。由於可以整合到 Calibre nmPlatform 工具集中，Calibre Pattern Matching 功能可利用所有 Calibre 工具和流程的業內領先性能和精度，為設計規則檢查 (DRC)、可靠性檢查、DFM、良率提升以及失效分析創造新的機會。
eSilicon 的 IP 產品和服務總經理 Deepak Sabharwal 表示: “我們的客戶借助 eSilicon 的設計服務、IP 和系統管理，幫助其成功成為市場領先的 IC”，“我們使用 Calibre Pattern Matching 來創建並應用基於 Calibre 的良率減損設計套件，用來確認並消除影響量產“預備”時間的設計圖形。”
自從引進 Calibre Pattern Matching 技術模型之後，可解決以往非常複雜或執行起來較為耗時的問題，其使用範圍也不斷快速擴張。新的使用案例包括以下內容：
• 對於通過直線邊設計資料來工作的產品而言，要進行弧形結構 IC 設計的物理驗證（面向類比、高功耗、射頻 (RF) 和微機電 (MEM) 電路）是極其困難的。Calibre 客戶將 Calibre Pattern Matching 技術和其他 Calibre 工具結合使用，從而自動進行驗證，以此提高效率和準確性，特別是相較於手動技術而言。
• Calibre Pattern Matching 技術能用於快速查找並移除已知或疑似難以製造的設計圖形（“良率減損”）。晶圓代工廠或設計公司創建良率減損圖形庫，並將針對一個製程節點或特有設計方案使用。三星代工廠在其 Closed-Loop DFM 解決方案中就使用了這一方法，從而幫助其客戶更快地投入到量產中，以及降低製程設計的可變性。
• 有些客戶會使用具有 Calibre Auto-Waivers™ 功能的 Calibre Pattern Matching 技術，以此定義確定可避免 DRC 違規的特定環境。此一性能提升技術能對此類違規進行自動篩選，從而節約大量時間，提升設計品質。
SMIC 高級副總裁 Min-Hwa Chi 說道:“為了協助客戶創建可交付製造的設計，我們運用 Calibre Pattern Matching 進行圖形資料庫創建，並且使用良率減損資料庫以在模組層級別修復大部分的litho熱點。然後我們採用具有 Calibre Pattern Matching 和 Calibre LFD 的解決方案，在晶片級對 Signoff DFM進行快速檢查”。“由於我們提供了基於 Calibre 平臺的解決方案來處理製造穩健性的問題，很多客戶都打算採用 SMIC 的 DFM 解決方案。”
借助 Calibre Pattern Matching 工具，設計公司現在就可就其獨特的設計樣式對其物理驗證檢查進行優化。由於此工具不依賴指令碼語言的專業知識，因此極為簡單易用。事實上，任何工程師都能定義視覺化圖形，用以捕捉設計師在關鍵幾何形狀和配置環境的專業意見。
Mentor Graphics 公司 Design-to-Silicon 事業部副總裁兼總經理 Joe Sawicki 表示:“隨著 Calibre Pattern Matching 技術使用範圍的日益廣泛，Mentor 一直在協助我們的客戶解決更為複雜的設計，無論針對哪個製程節點”。“通過整合 Calibre Pattern Matching 工具，Calibre 平臺成為了系統設計和製造之間極為重要的橋樑。”
在 2016 年設計自動化大會上，Mentor 將展示 Calibre Pattern Matching，您可於 6 月 7 日（星期二）下午三點前往 949 號 Mentor 展位瞭解。填寫登記表格，即可登記參與會議。
關於Mentor Graphics
Mentor Graphics® 是電子設計自動化 (EDA) 領域的全球領導者，提供許多公司軟體和硬體設計解決方案，促使其能更快速且更具成本效益地開發出更出色的電子和機械產品。Mentor Graphics®提供了各種創新的產品和解決方案，工程師可透過借助Mentor Graphics®不斷推陳出新的產品及解決方案，應對日趨複雜的電路板及晶片設計領域所面臨的挑戰。Mentor Graphics 擁有業界最豐富且一流的產品組合，也是全球唯一具備嵌入式軟體解決方案的 EDA 公司。
Mentor Graphics® 是電子設計自動化 (EDA) 領域的全球領導者，提供許多公司軟體和硬體設計解決方案，促使其能更快速且更具成本效益地開發出更出色的電子和機械產品。Mentor Graphics®提供了各種創新的產品和解決方案，工程師可透過借助Mentor Graphics®不斷推陳出新的產品及解決方案，應對日趨複雜的電路板及晶片設計領域所面臨的挑戰。Mentor Graphics 擁有業界最豐富且一流的產品組合，也是全球唯一具備嵌入式軟體解決方案的 EDA 公司。
• 上市公司（納斯達克代碼：MENT）
• 創立於 1981 年，總部位於俄勒岡州威爾遜維爾市
• 過去 12 個月報告的營收超過12億美元
• 全球各地設有 70 多個分公司或辦事處
• 公司網址 - www.mentor.com / www.mentorg.com.tw
