諾發系統、IBM 以及 CNSE的Albany奈米科技中心成立策略合作聯盟

本文作者:admin       點擊: 2010-03-02 00:00
前言:
位於加州聖荷西的諾發系統公司、東菲什克爾的IBM公司,和紐約奧爾巴尼的紐約大學奈米科學與工程學院(CNSE),日前於CNSE的Albany奈米科技中心共同宣布成立策略合作聯盟 ,將致力於發展22奈米以及更小世代的半導體製程技術的解決方案。

先進的45奈米和32奈米的半導體電路已進入量產,28奈米及更小世代的產品則正在進行開發。每進入一個更小的世代,就能促成體積更小、速度更快,並兼具更高效能的晶片,同時,也直接提高了產品的性能。受惠的對象則涵括伺服器至智慧型手機,無一例外。諾發系統在CNSE學院的Albany奈米科技中心,正式宣布加入這個已與IBM公司合作的CNSE研究團隊為合作夥伴,共同攜手面對進入每一個更小世代的技術挑戰。

這個技術聯盟成立後的第一個專案,將發展使用於28奈米和22奈米製程的無殘留物先進光阻剝除技術。光阻剝除是半導體晶片佈線的關鍵技術,此次合作的範圍將包含一系列光阻剝除製程,包括高劑量植入光阻剝除製程相容於高介電金屬閘極的技術,以及對極低介電係數材料無損傷的化學蝕刻技術之發展。

IBM公司在半導體技術發展與製造的經驗和成就,可以幫助這個團隊加速在28奈米以及更小世代製程的開發。IBM位於East Fishkill的半導體工廠和CNSE學院的Albany 奈米科技中心,將使用諾發系統的GxT ®先進光阻去除平台研發新的精密光阻剝除去應用。諾發系統在GxT平台上表現出領先業界的卓越清洗效果,藉由導入特有的無氧化化學去除技術,成功實現了矽和氧化物損失小於 0.1奈米的成果。CNSE學院則可在世界最先進的學術園地Albany奈米科技中心,提供第一流水準的技術人才與無與倫比的科技設施。

IBM製程開發副總裁 Paul Farrar 表示:「本公司將持續投入與諾發系統和CNSE在這個新技術上的合作,我們會先著重在優化目前領先業界的高介電金屬閘極晶體結構中的光阻剝除技術。再透過與設備供應商及世界級公司合資的CNSE Albany 奈米科技中心的密切合作,我們將可以快速地將這關鍵的前瞻技術推廣到IBM及其聯盟合作夥伴的產品上」。

諾發公司執行副總裁兼全球銷售、市場營銷暨客戶滿意度主管 Tim Archer 認為:「IBM公司在半導體製造工藝上深具響譽,諾發公司很高興能夠與 IBM和CNSE共組聯盟,並致力於先進的光阻剝除和清潔科學之技術發展」。

另一方面,UAlbany NanoCollege策略聯盟副總裁 Richard Brilla也表示:「我們非常期待與業界領導公司諾發系統以及 IBM 公司合作,共同致力於加速開發和部署創新技術,這技術將提升奈米電子製造的能力。同時,這層合作關係也將整合先進的工藝和設備技術,以幫助解決目前工業界迫切的需求,並提供IBM及其聯盟合作夥伴更先進的製程技術」。


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