Intermolecular創新平台提供IC 產業第一套專屬研發架構

本文作者:admin       點擊: 2007-09-07 00:00
前言:
大幅縮短開發時程、降低成本與風險Intermolecular日前宣佈推出全球第一套完全自動化的組合式半導體研發平台(combinatorial semiconductor R&D platform),此一平台包含一系列設備系統與軟體程式,可協助晶片廠商、材料供應商和設備製造商大幅縮短新材料、新製程技術及新元件架構開發與整合的時程。

Tempus™是Intermolecular最新的High-Productivity Combinatorial™ (HPC) 平台,能讓客戶以低成本迅速開發、整合及測試前所未見的大量選擇方案,進而創造最大的研發投資報酬率。

Intermolecular的HPC技術源自於在能源、醫藥、生技和其它由新材料出現所帶動之產業中廣泛應用超過15年的技術,無論速度或效能都已通過最嚴格的考驗。Intermolecular帶領半導體產業開發HPC和HPC衍生技術並將其商品化,其擁有的智慧財產權包括700多項已取得或正在申請中的專利。

選在SEMICON West 2007前夕推出Tempus HPC平台,Intermolecular創辦人暨執行長David Lazovsky指出,由於傳統研發方式缺乏效率,不但會對許多公司造成龐大的財務負擔,甚至還會影響其創新速度以致無法維持市場競爭力。

「經濟考量對半導體產業研發的重要性已超過技術綜效。」Lazovsky進一步表示,「技術上的挑戰不僅依然存在,其難度更急遽增高。舉例而言,新材料整合現已超越製程微縮,成為推動元件效能提升更重要的關鍵。IC產業已開始運用化學元素週期表發展下一代電子元件,但它所需的新製程與整合方法可能還要好幾年才會出現。為協助客戶因應這些挑戰,Intermolecular開發了一套互補性的Tempus技術平台,期望能大幅超越傳統研發方式,協助客戶提高研發效率。」

Tempus HPC產品與服務平台包括適用於自我組裝(self-assembly)、表面處理、清洗製程和化學鍍(electroless deposition)的流體應用產品線(Fluids Line),以及適用於資料非揮發性記憶體、高介電值(high-k) 與金屬閘極、以及先進導線連接等應用的物理氣相沉積產品線(Physical Vapor Deposition Line)。

Intermolecular的客戶可透過不同方式應用HPC技術,包括與Intermolecular的跨領域研究團隊進行協同開發計劃、採購Tempus系統、或是取得Intermolecular的IP使用授權等,以提高產品開發效率並縮短產品上市時程,這些都是傳統研發方式難以提供的重要競爭優勢。

Intermolecular的客戶包括北美、歐洲和亞洲的主要晶片廠商、材料供應商與設備製造商。

半導體產業協會(SIA) 總裁暨Intermolecular董事George Scalise表示:「由於消費性電子產品所帶動的汰換率愈來愈高,使得半導體元件的創新週期大幅縮短,因此我們必須尋找新方法以改善半導體元件的研發效率。Intermolecular的Tempus HPC平台可提供半導體研發機構一套強大的新工具,徹底改變新世代產品的上市成本。」

關於Tempus HPC平台與客戶專案的詳細資訊,請至www.intermolecular.com網站查詢。

關於Intermolecular
Intermolecular的High Productivity Combinatorial™ (HPC) 技術產品與服務,能協助客戶創造最大的半導體研發投資報酬率。其中Tempus™ HPC平台可為晶片廠商、材料供應商和設備製造商提供整合製程、特性分析與資訊系統,以大幅縮短新材料、新製程技術及新元件架構的開發與整合時程。
Intermolecular的客戶可透過不同方式應用HPC技術,包括與Intermolecular的跨領域研究團隊進行協同開發計劃、採購Tempus系統、或是取得Intermolecular的IP使用授權等。HPC技術可協助客戶以最低的成本及風險,迅速開發、整合及測試多種可選擇的解決方案,掌握獨一無二的智慧財產及上市時程優勢。

Intermolecular成立於2004年,總部位於美國加州的聖荷西(San Jose)。如欲取得進一步資訊,請至Intermolecular企業網站查詢:www.intermolecular.com。

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